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在選購小型濺射儀時(shí),可以考慮以下幾個(gè)因素

更新時(shí)間:2023-10-25點(diǎn)擊次數:573
  小型濺射儀利用高能離子束轟擊靶材料,使其原子或分子從靶材料上解離,并沉積在基板表面上,形成覆蓋層。通過(guò)調節離子束的能量和強度,可以實(shí)現不同性質(zhì)的薄膜制備。這種技術(shù)被廣泛應用于材料表面的改性和制備高質(zhì)量薄膜材料。主要用于制備薄膜材料,如金屬薄膜、氧化物薄膜等。這些薄膜具有良好的準晶結構和化學(xué)性質(zhì),廣泛應用于光電子、信息技術(shù)、磁學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。
 
  在選購小型濺射儀時(shí),可以考慮以下幾個(gè)因素:
 
  1.薄膜材料種類(lèi):不同的型號適用于不同種類(lèi)的薄膜材料,如金屬薄膜、氧化物薄膜、半導體材料等。根據實(shí)際需求選擇適合的儀器。
 
  2.濺射靶材:濺射靶材是產(chǎn)生薄膜主體的關(guān)鍵因素,可以選擇在市場(chǎng)上常見(jiàn)的金屬、合金、化合物等靶材。還需要考慮到靶材的尺寸、形狀以及純度等因素。
 
  3.濺射室尺寸:通常有不同尺寸的濺射室,選擇時(shí)需要考慮所需薄膜尺寸和樣品尺寸,確保儀器可以容納并制備所需的薄膜。
 
  4.濺射能源:可以根據不同需求使用直流(DC)或者射頻(RF)濺射能源,選擇時(shí)需要考慮使用的材料特性以及實(shí)驗條件。
 
  5.控制系統:控制系統應該易于操作和控制,具有可調節的濺射參數(如功率、流量等),同時(shí)具備安全保護功能。
 
  6.附加功能:一些可能配備真空系統、加熱裝置、旋轉樣品臺等附加功能,根據實(shí)際需求選擇是否需要這些輔助設備。
  小型濺射儀
  小型濺射儀的操作使用步驟:
 
  1.將待濺射的樣品固定在濺射靶上。
 
  2.將濺射靶放入濺射室,關(guān)閉室門(mén),并確保密封性良好。
 
  3.打開(kāi)濺射儀的電源開(kāi)關(guān)。
 
  4.選擇所需的濺射材料和工藝參數,并設置在控制面板上。
 
  5.打開(kāi)氣體供應系統,將惰性氣體(如氬氣)導入濺射室中,以確保稀薄的工作氣氛。
 
  6.打開(kāi)真空泵,以抽取濺射室內的空氣,創(chuàng )建真空環(huán)境。
 
  7.觀(guān)察真空計的示數,當達到所需的真空度后,可以開(kāi)始濺射過(guò)程。
 
  8.按下開(kāi)始按鈕,濺射過(guò)程開(kāi)始。
 
  9.完成濺射后,關(guān)閉濺射電源和氣體供應系統。
 
  10.打開(kāi)室門(mén),取出濺射靶,將樣品取下。
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