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高溫高密度等離子體腔體

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高溫高密度等離子體腔體通常用于制造高真空環(huán)境下的實(shí)驗室設備和工業(yè)設備。這些設備包括:惰性氣體保護焊接設備、電子束物理氣相沉積設備、分子束外延設備、離子束蝕刻設備。除了以上應用,真空石英腔體還可以用于制造太陽(yáng)能電池、光學(xué)儀器和研究天體物理學(xué)等領(lǐng)域

產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2024-01-11
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
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品牌鄭科探應用領(lǐng)域化工,電子,電氣

高溫高密度等離子體腔體是一種石英材料制成的封閉腔室,內部常常充滿(mǎn)等離子體氣體。等離子體是一種高溫、高密度的氣體,由帶正電荷的離子和帶負電荷的電子組成,具有導電性能。這種石英腔可以用于等離子體物理研究、等離子體加工技術(shù)以及材料表面改性等領(lǐng)域。

高溫高密度等離子體腔體可以有效地將等離子體與外界隔離,從而提高等離子體的純度和密度,同時(shí)保護外部設備不受等離子體的影響。例如,在半導體制造過(guò)程中,石英腔可以通過(guò)對氣體進(jìn)行高頻電場(chǎng)激勵來(lái)產(chǎn)生等離子體,用于蝕刻、沉積和表面改性等工藝。此外,石英腔還能保持良好的熱穩定性和耐腐蝕性,使其能夠在高溫、高壓和高氧化性的環(huán)境下,長(cháng)期運行。

電感耦合等離子(Inductively Coupled PlasmaICP)和電容耦合等離子(Capacitively Coupled PlasmaCCP)是兩種廣泛用于實(shí)驗室中的等離子體源。它們的主要區別在于它們產(chǎn)生等離子體的機制和特點(diǎn)。

ICP是在高整流器運作的RF(射頻)電源提供的高頻RF(常見(jiàn)頻率是27.12 MHz)的作用下工作的,而這個(gè)RF電源將產(chǎn)生的高頻電場(chǎng)通過(guò)感應耦合傳送到氣體放電管(都柏林管)內。這種電場(chǎng)產(chǎn)生了交變電壓,導致氣體分子發(fā)生電離,產(chǎn)生了等離子體。ICP的優(yōu)點(diǎn)在于它可以產(chǎn)生非常高的電子溫度和較高的等離子體密度,并用于產(chǎn)生高靈敏度的熒光譜檢測。

另一方面,CCP是通過(guò)直接應用高頻電場(chǎng)在帶電片和反電極之間產(chǎn)生的交變電場(chǎng)來(lái)產(chǎn)生等離子體的。這種電場(chǎng)使電極表面產(chǎn)生周期性的荷電狀態(tài)變化,從而促進(jìn)了等離子體的生成。CCP的優(yōu)點(diǎn)是其低能耗和簡(jiǎn)單的結構,但它通常只能產(chǎn)生低電子溫度和低等離子體密度的等離子體,因此在熒光譜檢測方面使用較少。

因此,這兩種等離子體產(chǎn)生技術(shù)在實(shí)驗室中都得到廣泛應用,并根據所需的特定應用和實(shí)驗室條件進(jìn)行選擇。

技術(shù)規格參數:

腔體材質(zhì):鋁合金+石英玻璃

腔體尺寸:內徑110mmx深度220MM

腔體容積:2.5L

腔體觀(guān)察窗:內徑φ35   石英玻璃

腔體抽氣口:KF16

腔體進(jìn)氣口:6MM卡套

腔體真空度:機械泵小于等于0.5Pa  






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